功能:
1. 对金属、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有机污染物 (如石蜡、油污、脱膜剂、蛋白等)进行超清洗。
2. 改变某些材料表面的性能。
3. 使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化,加强这些材料的粘附性、相容性和浸润性。
4. 清除金属材料表面的氧化层。
优点:
1. 对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和改性。
2. 绿色环保、不使用化学溶剂、对样品和环境无二次污染。
3. 在常温条件下进行超清洗,对样品非破坏性处理。
应用领域:
1. 光学器件、电子元件、半导体元件、激光器件、镀膜基片、终端安装等的超清洗。
2. 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
3. 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质,去除金属材料表面的氧化物。
4. 清洗半导体元件、印刷线路板、ATR元件、人工晶体、天然晶体和宝石。
5. 清洗生物芯片、微流控芯片、沉积凝胶的基片。
6. 高分子材料表面的修饰。
7. 封装领域中的清洗和改性,增强其粘附性,适用于直接封装及粘和。
8. 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。
9. 涂覆镀膜领域中对玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性,使其活化,增强表面粘附性、浸润性、相容性,显著提高涂覆镀膜质量。
设备名称 | 等离子清洗机(13.56Mhz) |
腔体材质 | 不锈钢 |
供电电源 | AC220V |
工作电流 | 整机工作电流不大于1.2A(不含真空泵) |
射频电源功率 | 0-300W可调(射频匹配一体) |
射频频率 | 13.56Mhz(偏移量小于0.2KHz) |
频率偏移量 | 小于0.2KHz |
特性阻抗 | 50欧姆,自动匹配 |
真空度 | 1pa-30Pa |
气体路数 | 双路气体输入 |
气体流量 | 10—300ml/min(可调) |
过程控制 | PLC人机界面自动与手动方式 |
清洗时间 | 1-99999秒钟可调 |
功率大小 | 10%-100%可调 |
内腔尺寸 | 2L、5L、10L |
外形尺寸 | 560×540×550mm |
真空泵 | 2XZ-2(抽速2L/S) |
真空室温度 | ≤室温+30°C |
冷却方式 | 强制风冷 |